日本化学会誌  (化学と工業化学)


--Nippon Kagaku Kaishi--

2001, No. 10, 10 月

Copyright 2001 by the Chemical Society of Japan


--総 合 論 文--

グラファイト層間でのアニオン重合
塩山 洋
549

--一 般 論 文--

N,N-ジエチルアミノシラン類のアンモノリシスによる高分子量ポリシラザンの合成
阿部芳首・依田孝次・工藤圭晃・村山澄幸・郡司天博
559

N-ベンゾイル-N-フェニルヒドロキシルアミン担持 XAD 樹脂を用いた固相抽出濃縮と逆相分配高速液体クロマトグラフィーによる微量スズの定量
陳  兵・井上貞信
567

アルキルアミノホスホニウム塩の電解法によるホスホニウムイリドとイミノホスホランの選択的生成
蒔田 桂・畔柳和士・安藤文雄・纐纈銃吾
573

石炭液化残留物およびその溶媒抽出物の熱重量分析
田口尚毅・辻 俊郎・柴田俊春・伊藤博徳
581

酵素重合による漆液の経時変化と低湿度環境における自然乾燥性発現の関係
永瀬喜助・神谷幸男・木村 徹・穂積賢吾・宮腰哲雄
587

ポリ塩素化ビフェニルのモデル化合物 4-クロロビフェニルの超臨界水中での炭酸カリウムを用いる酸化銅(II)存在下または非存在下の分解反応
秋山文紀
595